クイックポジ感光基板製作システムのご紹介

クイックポジ感光基板製作システム
時間とコストがかかる基板製作を簡単に行えるようにしたシステムです。ホビーや試作実験用のツールの他に小ロット生産用の設備もございますので、用途に合わせて最適な装置をお選びいただけます。

大まかな作業の流れ
作業は次の手順で進めます。

［ステップ-1］　アートワーク
↓
［ステップ-2］　露　　光
↓
［ステップ-3］　現　　像
↓
［ステップ-4］　エッチング
↓
［ステップ-5］　穴あけ
↓
［ステップ-6］　仕上げ

作業を行うにあたって、周囲を汚さないように汚れ防止用のビニールシート、新聞紙、基板水滴拭き取り用のペーパータオルなどをご用意ください。
実際に作業を行う場合は、「クイックポジ感光基板の作り方」を参照してください。

「クイックポジ感光基板の作り方」（pdfファイル）

［ステップ-1］　アートワーク

配線パターンを作成します

作成する基板の回路図に従って、配線パターンを描きます。最終的に基板には、ここで描いたパターンどおりに銅箔が残ります。
アートワークは基板製作において最も重要な工程です。

フィルムの作成には次に述べる二つの方式があります。どちらの場合も、露光を行うときにフィルムのパターン作成面と、感光基板の感光面を向かい合わせられるようにパターンを作成します。つまり、フィルムを裏返したときに正しいパターンに見えるように作成してください。

☆ポイント
・作画が完了したら、光に透かして薄い箇所やパターン切れを確実に修正してください。遮光性の良し悪しが基板の仕上がりに大きく影響します。
・次工程に移る前に、インクが十分乾いていることを確認してください。

【1】　インクジェットフィルム方式
パソコンを使用してパターンを作成し、インクジェットフィルムに出力します。
出力フィルムは必ず当社指定のインクジェットフィルムをお使いください。一般的なOHPフィルムは遮光性が悪く、現像不良やエッチング不良の原因になります。印刷条件は「クイックポジ感光基板の作り方」を参照してください。

【2】　レタリング方式
回路図を基に、レタリングやレジストペンなどを使用して透明フィルムにダイレクトにパターンを作画します。

fig1　パターン印刷面（インクジェットフィルム）

実際の基板はフィルムを裏返した状態でできあがります。できあがった状態で文字がきちんと見えるように、印刷面は文字を反転しています。

製品のご紹介
【1】　インクジェットフィルム方式の場合
パソコンとインクジェットプリンタでパターンを製作できます。

インクジェットフィルム

【2】　レタリング方式の場合
レタリングやレジストペンを使ってパターンを製作する場合に必要な器材です。

［ステップ-2］　露　　光

パターンを焼き付けます

この工程はできるだけ暗い部屋で行ってください。
フィルムとクイックポジ感光基板をクランプで密着固定し、ライトボックスで露光します。
※露光：パターン以外の部分に光を当てて、次工程の現像液に反応（溶出）する状態にします。

☆ポイント
・パターンは現像で現れます。露光後のパターン部の色変化はほとんどありません。
・フィルムは裏表を間違えないでください。
・フィルムと感光面にすき間ができないように、密着させてください。
・露光時間は感光基板の製造経過時間や使用するライトボックスによって変わります。各ライトボックスに対応する露光時間は以下の「露光プロファイル」を参照してください。

「露光プロファイル」（pdfファイル）

fig2　露光前の基板（感光面）

fig3　露光後の基板（感光面）

露光後の状態では、感光面の変化はほとんどありません。

製品のご紹介
クイックポジ感光基板
設計した回路の規模、部品点数、用途に応じた基板材質、サイズをお選びください。

クイックポジ感光基板	型　番	仕　　　様	備　考
	NZ-P10K	FR1（紙フェノール）　1.6t×75×100　片面	従来品10K相当
	NZ-P11K	FR1（紙フェノール）　1.6t×100×100　片面	従来品11K相当
	NZ-P12K	FR1（紙フェノール）　1.6t×100×150　片面	従来品12K相当
	NZ-P13K	FR1（紙フェノール）　1.6t×100×200　片面	従来品13K相当（受注生産品）
	NZ-P15K	FR1（紙フェノール）　1.6t×150×200　片面	従来品15K相当
	NZ-P17K	FR1（紙フェノール）　1.6t×200×250　片面	従来品17K相当（受注生産品）
	NZ-P18K	FR1（紙フェノール）　1.6t×200×300　片面	従来品18K相当（受注生産品）
	NZ-E40K	CEM3（ガラスコンポジット）　1.0t×75×100　片面	従来品40K相当
	NZ-E41K	CEM3（ガラスコンポジット）　1.0t×100×100　片面	従来品41K相当
	NZ-E42K	CEM3（ガラスコンポジット）　1.0t×100×200　片面	従来品42K相当（受注生産品）
	NZ-E43K	CEM3（ガラスコンポジット）　1.0t×100×150　片面	従来品43K相当
	NZ-E44K	CEM3（ガラスコンポジット）　1.0t×150×200　片面	従来品44K相当
	NZ-G30K	FR4（ガラスエポキシ）　1.6t×75×100　片面	従来品30K相当
	NZ-G31K	FR4（ガラスエポキシ）　1.6t×100×100　片面	従来品31K相当
	NZ-G32K	FR4（ガラスエポキシ）　1.6t×100×200　片面	従来品32K相当（受注生産品）
	NZ-G33K	FR4（ガラスエポキシ）　1.6t×100×150　片面	従来品33K相当
	NZ-G34K	FR4（ガラスエポキシ）　1.6t×150×200　片面	従来品34K相当
	NZ-G35K	FR4（ガラスエポキシ）　1.6t×200×250　片面	従来品35K相当（受注生産品）
	NZ-G36K	FR4（ガラスエポキシ）　1.6t×200×300　片面	従来品36K相当（受注生産品）
	NZ-G30KR	FR4（ガラスエポキシ）　1.6t×75×100　両面	従来品30KR相当
	NZ-G31KR	FR4（ガラスエポキシ）　1.6t×100×100　両面	従来品31KR相当
	NZ-G32KR	FR4（ガラスエポキシ）　1.6t×100×200　両面	従来品32KR相当（受注生産品）
	NZ-G33KR	FR4（ガラスエポキシ）　1.6t×100×150　両面	従来品33KR相当
	NZ-G34KR	FR4（ガラスエポキシ）　1.6t×150×200　両面	従来品34KR相当
	NZ-G35KR	FR4（ガラスエポキシ）　1.6t×200×250　両面	従来品35KR相当（受注生産品）
	NZ-G36KR	FR4（ガラスエポキシ）　1.6t×200×300　両面	従来品36KR相当（受注生産品）
	NZ-M1K	フレキシブルポリイミド　0.085t×100×150　片面	従来品1K相当（受注生産品）
	NZ-M2K	フレキシブルポリイミド　0.085t×80×300　片面	従来品2K相当（受注生産品）
	NZ-M3K	フレキシブルポリイミド　0.085t×150×200　片面	従来品3K相当（受注生産品）
	NZ-M4K	フレキシブルポリイミド　0.085t×200×300　片面	従来品4K相当（受注生産品）
	NZhP93K	FR1（紙フェノール）　1.6t×72×95　片面　穴あき	ICB-293相当
	NZhP96K	FR1（紙フェノール）　1.6t×115×160　片面　穴あき	ICB-96相当
	NZhP502K	FR1（紙フェノール）　1.6t×190×95　片面　穴あき	ICB-502相当
	NZhE92K	CEM3（ガラスコンポジット）　1.6t×102.87×92.71　片面　穴あき	ICB-92相当

ライトボックス
パターンを焼き付けるときに使用する光源です。（クランプは付属しています）

ライトボックス

クランプ
感光基板とパターンフィルムを密着させるためのクランプがあると便利です。

バキュームクランプ

PKクランプ

［ステップ-3］　現　　像

感光基板を現像します

露光後のクイックポジ感光基板を現像液に入れ、縦・横に静かに揺らします。20〜30秒程度で光の当たった箇所の感光剤が溶け出して、パターンが現れます。パターンが現れたら、速やかに液中から引き上げ、水洗いします。

☆ポイント
・現像液の温度は30℃前後が適温です。
・水洗いは流水を避け、ため水で行います。また、手早く行ってください。

fig4　現像中

fig5　現像後の基板（感光面）

現像を始めるとパターンが浮き出てきます。

製品のご紹介
現像液・現像剤
現像剤は便利な水溶液タイプのDP-1000をお勧めいたします。

現像液

現像剤

バット・ピンセット
現像用・水洗用として複数あると便利です。

バット

ピンセット

温度計
液温の管理に。

温度計

［ステップ-4］　エッチング

現像後の感光基板をエッチングします

現像後のクイックポジ感光基板を、水洗いしてからエッチング液（液温40℃前後）に入れ、パターン以外の銅箔を溶解します。
バット（樹脂容器）でエッチングを行う場合は、現像後のクイックポジ感光基板をエッチング液に入れ、エッチングが終わるまで液中で静かに揺らします。作業時間は新液で約10分です。
エッチングが完了したら水洗いし、以下のいずれかの方法で残った感光膜を除去してください。

　●「フラックスクリーナー」で拭き取る。
　　（フレキシブル基板の場合は「フラックスクリーナー」に浸すと補強板もはがれやすくなります）
　●そのまま再度露光し、現像液に漬けて溶かす。
　●スチールウールやクレンザーなどでこすり落とす。